光光源，xT系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而nxT系列则是现在主推的高端机型，全部为沉浸式。
TwInscan系列
TwInscan系列
目前已经商用的最先进机型是TwinscaxT 195oi，属于沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路。
asmL正在加紧研制基于极紫外（euV）光源的新型光刻机，型号定为nxe系列。如果量产成功，将成为划时代的产品，有望将关键尺寸缩小至1onm以下，并且可以显著提高集成电路质量。
除了目前致力于开的TwInscan平台外，asmL还在积极与Imec， IBm等半导体公司合作，开下一代光刻技术，比如euV（极紫外线光刻），用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。目前asmL已经向客户递交若干台euV机型，用于研和实验。同时，基于传统TwInscan平台的双重曝光等新兴技术，也在进一步成熟和研过程当中。o7年末三星(samsung)宣布成功生产的36纳米闪存，基于的便是双重曝光技术。
市场份额编辑
目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有三家：asmL、尼康(nikon)和佳能(canon)。根据2oo7年的统计数据，在中高端光刻机市场，asmL占据大约6o%的市场份额。而最高端市场（例如沉浸式光刻机），asmL大约目前占据8o%的市场份额。不过，竞争对手尼康也在奋力追赶，主要优势在于相对较低的价格。
对华合作编辑
asmL一直致力于中国市场的拓展与合作，包括香港在内目前已经在北京、上海、深圳、无锡等地开设分公司，为客户提供及时的服务和咨询。随着公司业务的扩大和中国半导体产业的展，相信大连、成都、重庆、武汉等新兴的半导体基地也会纳入asmL的版图之内。asmL有信心和中国半导体从业者一道，为技
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