“另外，这是光吸收光谱……”
见学姐只单独列出刮涂有效层薄膜的光吸收图像，许秋提议道：“可以对比一下刮涂和旋涂两种制备方法得到的有效层薄膜的光吸收光谱，我的意思是放在同一张图里进行比较，看有没有什么差异。”
陈婉清略作思考，点了点头：“好的，我把它们画在一起，比较一下。”
“嗯，我推测刮涂法的光吸收光谱的吸收峰位置，可能会相对旋涂法的吸收峰生红移，而且理论上峰应该会更‘尖’一些，也就是半峰宽会比较小。”许秋先是补充了几句，随后话锋一转：“当然，如果实验结果不是这样，那就当我没说。”
众人本来听前半段觉得许秋分析的很有道理，结果没想到最后补上了这样的一句，皆是笑了出来。
许秋的《焦耳》综述已经初步撰写完毕，正在进行收尾和文章的修改，预计这周投出。
这篇文章只有他和魏兴思两个作者，不能拜托其他人帮忙修改，在找魏老师前，只能自己先多看几遍了。
韩嘉莹上周完成了h5、J4材料的合成，周末做了一批器件，采用了IT-4F、IdIc-4F等受体材料与之匹配。
结果表明，h5材料的器件性能相较h22，大约下降了1%的效率，而J4和J2性能的变化不大，许秋在模拟实验室中，通过多次重复实验，也印证了学妹在现实中的实验结果。
其中，h5的工作，大概率不了什么太好的文章，上限差不多是弱一区，或者am子刊的话，有希望一篇am级别的文章，虽然器件性能没有明显提高，但采用氯原子取代氟原子这个思路，解决了材料合成难度这一问题，也是一个很大的亮点
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