我有科研辅助系统

还没捂热乎呢。”许秋嘀咕了一句，“不过，至少曾经拥有过。”

    许秋心态倒是很轻松，就算学妹做的更高，她的文章自己也是二作，四舍五入一下，大概就相当于是自己破了自己的记录嘛。

    而且对于这个结果他也不是很意外，毕竟学妹的二代6系列效率最高值都已经7.5%了，而现在是三代8系列，后者采用了在许秋体系中颇有成效的两步分子结构优化手段——氮原子位侧链修饰、引入硒原子，效率飙升也很正常。

    而且，这次的模拟实验，许秋整合了前期3d-pdI体系的所有器件加工策略，花了整整十二个小时，测试了数百种条件，为的就是一步到位，直接把效率做上去。

    换言之，想进一步优化器件加工条件，使得效率向上提升，空间并不大，基本上已经达到了材料的性能上限。

    想要进一步提升，除非拓宽给体库或者颠覆现有的涂膜方式。

    前者很好理解，但是需要时间积累。

    后者的话，指的是研究者们开出来的特殊涂膜方式，包括许秋之前开的热旋涂法；还有一些文献中报道的，比如“一层又一层”旋涂法，就是把给体、受体分开旋涂两次；“倒着涂”旋涂法，在旋涂成膜的最后过程中，让基片正面朝下旋转等等……

    关于特殊涂膜方式的文章，只有零零星星的三两篇，被报道后几乎没什么模仿者，而且效果看起来也一般。

    就比如acsamI的一篇文章，用的就是“倒着涂”旋涂法，他们采用的标准pce1o:pcBm体系，正常旋涂得到的器件效率为8.o%，而“倒着涂”之后，效率提升至8.8%，然而这个体系，许秋随随便便做出来的标样效率都在1o%以上，所以他总觉得他们在玩杂技，也就没有模仿他们的兴趣。

    反复看了几遍9.17%这个数据，许秋开始盘算：

    “今天周五一整天都要准备光源样品，周六要光源测试，周日休息一天，现实中的实验结果要等周一才

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